半导体使用臭氧水清洗处理方法
①减少化学药品的使用
a) 半导体用化学药品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相对较贵，并且需在60-100 ℃的高温条件下发生作用，难以使用。而近年，臭氧水作为可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式， 受到广泛关注。因为仅仅是将纯净水通过臭氧水生成器，便可以简单地产生臭氧，因此可大大降低运营成本。
b) 使用臭氧水进行清洗处理后，臭氧成分便迅速蒸发，因此废水处理也十分容易。
②出色的清洗能力(颗粒， 金属污染物，有机物质)
因为臭氧拥有仅次于氟素的氧化还原能力，其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很难氧化的碳化硅或氮化镓基板也十分有效。(两者作为半导体材料受到广泛关注）
推荐的清洗处理方法
※清洗装置使用枚叶式主轴。
